三星电子、英特尔、Rapidus等代工后来者们正拼尽全力追赶TSMC的脚步。他们或计划先于TSMC采用尖端工艺(三星电子),或引进最新装备(英特尔),或谋求工厂完全自动化(Rapidus),从而大幅提前交付时间。希望客户能够选择廉价、交付快的自家工厂,取代昂贵、交付慢的TSMC。
由丰田、铠侠等8家日本大企业联合成立的Rapidus决定利用机器人和AI实现2纳米(10亿分之1)工艺芯片生产线的完全自动化。Rapidus的构想是从设计、制造芯片的前道工艺,到封装(组装)、测试(检查)的后道工艺,全部实现自动化。在目前的芯片生产中,前道工艺自动化水平较高,但后道工艺仍需要大量人力介入。日经亚洲报道称:“这是为了比竞争企业缩短工期。”Rapidus的目标是将交货时间较TSMC等竞争公司提前约三分之一。因2纳米量产投产比TSMC晚了两年,因此想在AI芯片的生产速度上与之一决胜负。Rapidus计划2025年生产试制品,2027年启动量产,计划工厂10月前竣工,12月引进EUV(极紫外线)装备。
世界排名第二的三星电子采取的战略是速度和低功耗。最近,三星电子推出AI芯片“Turnkey(一站式生产)”服务,正在积极招揽客户。三星电子提供芯片设计、存储器、代工、封装的一站式服务,能够提高供货速度。与此同时,三星还凭借“GAA(Gate-All-Around)”技术和封装技术正在提高精细工艺的完成度。GAA是一项通过将电流外泄最小化,从而提高电力效率和芯片性能的技术。据一位芯片业界人士称:“最近正值AI热潮,AI模型开发公司和数据中心运营企业及时或供芯片至关重要”,“三星电子正在深耕这种需求。”
最近,英特尔宣布,俄勒冈工厂正在引进2纳米以下制程所必需的荷兰ASML新一代光刻机“High-NA EUV”。至此,英特尔共拥有两台High-NA EUV。除了英特尔以外,尚未有其他企业的工厂引入该设备。对比原有的EUV,High-NA EUV聚光能力更强,能够雕刻更精密的芯片电路。尽管英特尔因业绩不佳最近正在进行大规模结构调整,但为了提高技术力,仍斥巨资购置了价格是之前设备约两倍的新设备。今年上半年,英特尔仅代工业务就累计亏损53亿美元。英特尔计划2027年将该设备正式用于1.4纳米芯片的量产,并实现扭亏为盈。
AI泡沫论下TSMC销售仍飙升
尽管后来者们发起强烈挑战,TSMC的市场支配力依然稳如泰山。TSMC第二季度的AI芯片销售占比达52%,首次超过一半。不仅拥有90%以上AI加速器市场份额的英伟达,就连代工竞争对手英特尔也决定委托TSMC生产下一代AI加速器“Gaudi 3”。
尽管最近有AI泡沫论抬头,但随着各大科技公司宣布不会裁撤AI基建投资,预计TSMC今年下半年业绩将大幅超出市场预期。12日,台湾《经济日报》报道称:“苹果、英伟达、AMD、高通四大客户公司芯片订购量增加,预计下半年销售额将大幅增加,年销售额增幅也可能会从当初预测的26~29%提高到31~34%。”TSMC第二季度销售额约为25万5000亿韩元(约合人民币1335亿元),净利润为10万5000亿韩元(约合人民币550亿元),各自同比增加了40.1%和36.3%。