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中国开始生产光刻机的报道一出，ASML、闪迪（-11.02%）等美国半导体股价应声暴跌。28日，三星电子（-8.86%）、SK海力士（-10.30%）也以暴跌开盘。

因美国网络媒体The Information报道称，中国今年正式启动浸没式深紫外（DUV）光刻机生产，昨晚夜间荷兰ASML在美国与欧洲股市的股价暴跌了8.4%。多家涉及全球半导体设备供应链的企业股价也受到了影响。BE半导体实业公司（BESI）股价暴跌9.7%，Soitec下跌了7.1%。

据报道，一家总部位于上海的国资背景企业（传闻吸纳了宇量昇科技等初创企业人力）成功启动自研浸没式（液浸）深紫外（DUV）光刻机的量产。据悉，该司计划面向SMIC、CXMT、华虹半导体等中国本土客户，今年交付5台，明年交付20台。

The Information报道称：“长远来看，该成果有望成为其在中国市场挑战ASML的契机，但该系统在性能与可靠性方面仍落后于ASML，量产前还需追加测试”，“中国还在开发国产EUV装备，但仍停留在试制品阶段。”

但市场分析认为，当前受美国出口管制，中国难以采购ASML设备，一旦国产DUV站稳脚跟，ASML的中国销售额将长期承压。如果中国工程技术当真攻克了难度极高的光刻工艺瓶颈，剩余的美国供应链（沉积、刻蚀、检测设备等）也将面临巨大的被取代的风险。

因此，闪迪（-11.02%）、美光（-2.25%）、英伟达（-4.99%）、AMD（-5.17%）等半导体相关股票也相继下跌。

但主要证券公司的分析师相继发声安抚市场的恐惧心理称，生产少量的设备不会即刻摧毁ASML的全球垄断格局。

美国银行分析师迪迪埃·斯塞马表示：“中国对ASML的威胁有限”，“中国本土企业若想取代ASML，必须具备同等水平的超高生产效率与精度。”摩根大通分析师桑迪普·德什潘德也表示：“生产少量的浸没式DUV装备与制造可实际用于量产的装备完全是两码事”，“在数千次晶圆工艺中的良率、套刻精度、处理量、可靠性才是真正重要的指标。”他评价称，此事的确会推高ASML中国销售额面临的长期风险，但企业的中期业绩预期依旧稳健。